1)硅的丰裕度。硅是地球上第二丰富的元素,占地壳成分的25%;经合理加工,硅能够提纯到半导体制造所需的足够高的纯度而消耗更低的成本。
2)更高的熔化温度允许更宽的工艺容限。硅1412℃>锗937℃。
3)更宽的工作温度。用硅制造的半导体件可以用于比锗更宽的温度范围,增加了半导体的应用范围和可靠性。
4)氧化硅的自然生成。氧化硅是一种高质量、稳定的电绝缘材料,而且能充当优质的化学阻挡层以保护硅不受外部沾污;氧化硅具有与硅类似的机械特性,允许高温工艺而不会产生过度的硅片翘曲。
(简答题)
常用的半导体材料为何选择硅?
正确答案
答案解析
略
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(判断题)
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(单选题)
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(简答题)
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(简答题)
现有三块半导体硅材料,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为:p01=2.25×1016cm-3,p02=1.5×1010cm-3,p03=2.25×104cm-3
(简答题)
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(简答题)
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(简答题)
现有三块半导体硅材料,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为:p01=2.25×1016cm-3,p02=1.5×1010cm-3,p03=2.25×104cm-3
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(简答题)
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