(简答题)
简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
答案解析
哪种BiCMOS工艺用的较多?为什么?
什么是BiCMOS?BiCMOS的特点是什么?
(判断题)
双极型集成电路工艺是用来制造CMOS集成电路。
(填空题)
BICMOS电路具有()、()等优点。
N-ISDN是以()为基础,采用()方式。
(单选题)
宽度为3m的条形基础,作用在基础底面的竖向荷载N=1000kN/m,偏心距e=0.7m,基底最大压应力为:
简述倒掺杂阱技术的步骤。
下列关于离子阱的说法哪一个是错误的?()