1）原因：正胶的曝光区和负胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，而正胶的非曝光区和负胶的曝光区的光刻胶则不会在显影液中溶解。
正胶由以下物质组成：碱溶性的酚醛树脂，光敏性邻重氮醌和溶剂二甲苯等。显影液是氢氧化钠等碱性溶液。曝光的重氮醌退化，易溶于显影液，未曝光的重氮醌和树脂构成的胶膜难溶于碱性显影液。负胶大多数由长链高分子有机物组成，曝光的顺聚异戊二烯在交联剂作用下交联，成为体型高分子，并固化，不再溶于有机溶剂构成的显影液，而未曝光的长链高分子溶于显影液，显影时被去掉。
2）光刻流程：底膜处理→涂胶→前烘→曝光→显影→坚膜（后烘）→显影检验→刻蚀→去胶→最终检验
（简答题）
解释图中现象的原因和叙述流程
正确答案
答案解析
略
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