投影掩膜版：图形可能仅包含一个管芯，也可能是几个。容易形成亚微米图形；小曝光场，需要步进重复；光学缩小，允许较大的尺寸。
光学掩膜版：包含了对于整个硅片来说确定一工艺层所需的完整管芯阵列。没有缩小系统，很难形成亚微米图形；曝光场是整个硅片；掩膜与硅片有相同的关键尺寸。投影掩膜版的制造：电子束直接写。
（简答题）
比较投影掩模版和光学掩模版有何异同？说明采用什么技术形成投影掩模版上的图形？
正确答案
答案解析
略
相似试题
（名词解析）
MASK掩模版
（简答题）
已知IP地址，和子网掩码，求网络地址和主机地址，并说明该子网所拥有的最大主机数。已知某网络中一主机IP地址为192.14.72.24，子网掩码为：255.255.255.224，1）试求该子网的网络地址（net-id）；2）写出该子网可用的最大主机数量。
（多选题）
PON网络及业务配置模版变更需求包括（）。
（简答题）
请说明Trim和Break命令有何异同？
（简答题）
说明电阻丝应变片和半导体应变片的异同点，各有何优点？
（简答题）
比较DNA聚合酶Ⅰ、Ⅱ和Ⅲ性质的异同。DNA聚合酶Ⅳ和Ⅴ的功能是什么，有何生物学意义？
（简答题）
试比较说明金属热电阻和半导体热敏电阻的异同。常用热电阻都有哪些？
（简答题）
原子吸收法有何特点？它与吸光度法比较有何异同？
（简答题）
试比较α-淀粉酶、β-淀粉酶、葡萄糖淀粉酶的异同，并论述他们在水解淀粉的方式和产物上有何区别。
