从蒸发源蒸发出来的粒子通过辉光放电的等离子区时，其中的一部分被电离成为正离子，通过扩散和电场作用，高速打到基片表面，另外大部分为处于激发态的中性蒸发粒子，在惯性作用下到达基片表面，堆积成薄膜，这一程称为离子镀膜，为了有利于膜的形成，必须满足沉积率大于溅射速率的条件，这可通过控制蒸发速率和充氦压强来实现。
离子镀膜的主要优点是基片表面和膜面洁净，不受沾污。由于基片受到高能粒子的轰击，温度较高，因此对基片不用辐射加热就能提高表面区域的扩散和化学反应速度，并具有互溶性。
（简答题）
论述离子镀膜技术的原理，并加以图示。
正确答案
离子镀膜技术是60年代发展起来的一种镀膜方法，它是真空蒸发与溅射相结合的新工艺，即利用真空蒸发来作薄膜，用溅射作用来清洁基片表面。因此，它是在辉光放电中的蒸发法，离子镀膜装臵如图所示。
从蒸发源蒸发出来的粒子通过辉光放电的等离子区时，其中的一部分被电离成为正离子，通过扩散和电场作用，高速打到基片表面，另外大部分为处于激发态的中性蒸发粒子，在惯性作用下到达基片表面，堆积成薄膜，这一程称为离子镀膜，为了有利于膜的形成，必须满足沉积率大于溅射速率的条件，这可通过控制蒸发速率和充氦压强来实现。
离子镀膜的主要优点是基片表面和膜面洁净，不受沾污。由于基片受到高能粒子的轰击，温度较高，因此对基片不用辐射加热就能提高表面区域的扩散和化学反应速度，并具有互溶性。
从蒸发源蒸发出来的粒子通过辉光放电的等离子区时，其中的一部分被电离成为正离子，通过扩散和电场作用，高速打到基片表面，另外大部分为处于激发态的中性蒸发粒子，在惯性作用下到达基片表面，堆积成薄膜，这一程称为离子镀膜，为了有利于膜的形成，必须满足沉积率大于溅射速率的条件，这可通过控制蒸发速率和充氦压强来实现。
离子镀膜的主要优点是基片表面和膜面洁净，不受沾污。由于基片受到高能粒子的轰击，温度较高，因此对基片不用辐射加热就能提高表面区域的扩散和化学反应速度，并具有互溶性。
答案解析
略
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