(单选题)
半导体三极管工作过程中()。
A发射区杂质浓度大于基区杂质浓度;
B发射区杂质浓度小于基区杂质浓度;
C发射区杂质浓度等于基区杂质浓度;
D发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。
正确答案
答案解析
略
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