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(单选题)

半导体三极管工作过程中()。

A发射区杂质浓度大于基区杂质浓度;

B发射区杂质浓度小于基区杂质浓度;

C发射区杂质浓度等于基区杂质浓度;

D发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。

正确答案

来源:www.examk.com

答案解析

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