以蒸发沉积为基础发展了电子束蒸发沉积、分子束外延薄膜生长(MBE)、加速分子束外延生长;
以载能束与固体相互作用为基础,先后出现了离子束溅射沉积、脉冲激光溅射沉积(PLD)、强流离子束蒸发沉积、离子束辅助沉积(IBAD)、低能离子束沉积;
以等离子体技术为基础发展了等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、磁控溅射沉积等。
物理方法:真空蒸发沉积磁控溅射法离子束溅射沉积脉冲激光沉积(PLD)分子束外延(MBE)
化学方法:化学气相沉积(CVD)溶胶-凝胶法(Sol-Gel法)电沉积液相外延(LPE)化学束外延。
(简答题)
薄膜材料制备方法主要有哪些?
正确答案
答案解析
略