(单选题)
化工过程测量中,()测量易引入纯滞后。
A流量、压力
B压力、物位
C物位、温度
D温度、成分
正确答案
答案解析
略
相似试题
(判断题)
当调节过程不稳定时,可以增加积分作用或增大比例度;对纯滞后大的调节对象,可以引入微分作用。
(填空题)
化工生产过程中,仪表测量的五大参数为()、()、()、()、()。
(判断题)
调节对象的纯滞后过大,可以引入微分作用加以克服。
(填空题)
测量滞后一般由()引起,克服测量滞后的办法是在调节规律中()。
(单选题)
引起测量滞后最不可能的原因是由于()引起的。
(判断题)
调节系统中采用微分作用可以消除纯滞后。
(单选题)
纯滞后时间长,将使系统超调量增加,干扰通道中的纯滞后对调节品质()。
(填空题)
仪表测量中的五大过程参数是()、()、()、()、()。
(填空题)
在整个测量过程中保持不变的误差是()误差。