（判断题）
CMP带来的一个显著的质量问题是表面微擦痕。小而难以发现的微擦痕导致淀积的金属中存在隐藏区，可能引起同一层金属之间的断路。
A对
B错
正确答案
答案解析
略
相似试题
（判断题）
化学机械平坦化，简称CMP，它是一种表面全局平坦化技术。
（单选题）
下列哪种情况不属于表面质量问题（）。
（判断题）
微波在食品运用过程中除考虑食品的质量之外，很重要的一个问题是必须注意泄漏问题。
（单选题）
（）能显著地改变液体的表面强力和二相间界面张力，因此是形成稳定液膜的关键。
（单选题）
为了确保灰砂浆与基层表面粘结牢固，防止抹灰层空鼓、开裂、脱落等质量问题，抹灰前除必须对基层表面进行处理外，在抹灰（），对墙体用水湿润。
（判断题）
在CMP设备中被广泛采用的终点检测方法是光学干涉终点检测。
（单选题）
一个主要质量问题只能画（）张因果图。
（单选题）
（）什么的普及应用，是现代社会的一个显著标志。
（判断题）
20世纪90年代初期使用的第一台CMP设备是用样片估计抛光时间来进行终点检测的。
