（单选题）
同一导电试件，若激励频率提高到原来的九倍，即f2=9f1。则渗透深度应符合（）。
Aδ2=1/9δ1
Bδ2=1/3δ1
Cδ2=9δ1
Dδ2=3δ1
正确答案
答案解析
略
相似试题
（单选题）
在相同激励频率之下，同一钢试件，磁饱和前后的渗透深度应符合（）。
（单选题）
以相同条件透照同一工件，若焦距从1米缩短到0.8米，则曝光时间可从原来的5分钟减少到（）分钟
（单选题）
如涡流探伤的激励频率增加，而场强不变，则试件表面的涡流密度会（）.
（单选题）
某钢试件，在未进行磁饱和时，渗透深度为1mm，若进行磁饱和后，导磁率降至原来的1%，则此时的渗透深度为（）。
（单选题）
对方形截面的导电试件，选用涡流探伤时可采用（）。
（单选题）
再通有交变电流的线圈中放入导电试件时，则在试件中就会有涡流（）。
（单选题）
如果在穿过式线圈的激励绕组中通以直流电流，则在线圈中的静止试件中（）.
（单选题）
在涡流探伤中，最佳激励频率区域是（）。
（填空题）
磁场强度不变，试验频率增加时，则试件表面涡流密度（）.
