负胶；负胶的非爆光区被腐蚀掉，用来做扩散区。
光刻流程：底膜处理→涂胶→前烘→曝光→显影→坚膜（后烘）→显影检验→刻蚀→去胶→最终检验
（简答题）
若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区，光刻时需要使用哪种光刻胶？为什么？并简介光刻操作流程。
正确答案
答案解析
略
相似试题
（单选题）
在防水卷材抗静态荷载试验中在每个荷载间隔试件测试后（）min，用肥皂溶液涂被压表面，检查可能的穿孔。对荷载区域用真空或加压的方法产生（）kPa的压差，上表面在低压力的一面。若（）s后观测到空气气泡，认为试件无穿孔。
（简答题）
图示两根尺寸相同的木梁，左端用垫木和螺栓将二者固结在一起，右端用直径d=10mm的钢制螺栓拧紧。若木梁中最大正应力不允许超过47MPa，钢制螺栓中最大正应力不允许超过400MPa，试分析当不断拧紧钢制螺栓时，木梁和钢制螺栓中的最大正应力哪一个先达到其极限值。
（单选题）
黑色短毛豚鼠与白色长毛豚鼠杂交，F1为黑色长毛，F1互相交配，F2为9黑长∶3黑短∶3白长∶1白短。若F1用白色长毛亲本豚鼠回交，则后代不同表型及比为（）
（简答题）
描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。
（简答题）
什么是硅化物？难熔金属硅化物在硅片制造业中重要的原因是什么？
（单选题）
硅片抛光在原理上不可分为（）
（简答题）
图示桁架，承受载荷F作用，已知杆的许用应力为[σ]。若节点A和C间的指定距离为l，为使结构重量最轻，试确定θ的最佳值。
（简答题）
例举出硅片厂中使用的五种通用气体。
（单选题）
环境空气数据统计中，计算城市范围平均值时，清洁对照点若在城区，且代表区域占城市面积的（）以上，则参加统计计算；否则，不参加统计。
