（简答题）

简述硅片表面污染的来源。

正确答案

硅片表面污染的来源主要有以下几方面：
（1）有机物沾污：包括切、磨、抛工艺中的润滑油脂；石蜡、松香等粘合剂；手指分泌的油脂及光刻胶、有机溶剂的残留物等。
（2）金属离子、氧化物及其他无机物质：包括腐蚀液中重金属杂质离子的残留；各种磨料中的氧化物或金属离子；使用的容器、镊子、水中金属离子的沾污；各种气体、人体汗液等引入的杂质离子。
（3）其他可溶性杂质。

答案解析

略

相似试题

（简答题）
简述硅片表面污染的来源。
答案解析
（简答题）
简述放射性污染的来源。
答案解析
（简答题）
简述芳香胺类化合物的主要污染来源。
答案解析
（简答题）
简述室内空气污染物的来源。
答案解析
（简答题）
简述放射性污染来源。
答案解析
（简答题）
简述动物性食品外源性生物污染的来源和途径。
答案解析
（简答题）
简述表面活性剂对环境的污染与效应。
答案解析
（简答题）
举出污染土壤的主要污染物质及其来源？
答案解析
（多选题）
噪声污染的几种主要污染来源包括（）。
答案解析