（判断题）
LPCVD多晶硅和氮化硅等薄膜易形成保形覆盖，在低温APCVD中，非保形覆盖一般比较常见。
A对
B错
正确答案
答案解析
略
相似试题
（填空题）
在太阳能电池制造技术的开发中，作为主流的结晶系太阳能电池有（）和薄膜多晶太阳能电池等。
（填空题）
薄膜电池分为：（）和非晶硅薄膜电池。
（填空题）
在多晶硅电池片上用等离子体进行的化学（）生产氮化硅膜是历来常用的方法。
（简答题）
在多晶硅电池片上用等离子体进行的化学气相沉积法生产的氮化硅膜会产生哪两种效果？
（单选题）
金太阳和太阳能光电建筑应用示范项目中，非晶硅薄膜组件最高限价（）元/峰瓦。
（单选题）
金太阳和太阳能光电建筑应用示范项目中，非晶硅薄膜组件衰减率2年内不高于（）。
（填空题）
在多晶硅薄膜制造装置中可使用RTP，将得到的灯光用（），然后缓慢地移动位置，使多晶硅薄膜再结晶化。
（简答题）
异质基片上高品质叠层的多晶硅型薄膜技术有几种方法？
（单选题）
非晶硅薄膜组件效率不低于（）。
