第一，若离子室沉积有二氧化硅，而积垢又不太硬，可注射若干毫升氟里昂，点火后，生成气态氟化氢，它再和二氧化硅形成挥发性物质，由气流带出。
第二，若上述方法不能除掉，则要把离子头内各部拆卸下来，放在超声浴中清洗二小时，然后在蒸馏水和丙酮中反复漂洗。也可用能够除掉二氧化硅的表面活性剂进行清除。
（简答题）
工业在线色谱仪氢焰检测器（FID）收集极积垢后用什么方法可以除掉？
正确答案
答案解析
略
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