首页技能鉴定其他技能集成电路制造工艺员
(单选题)

如果磷在二氧化硅中扩散,对扩散率影响最大的因素是:()。

A扩散剂总量

B压强

C温度

D浓度

正确答案

来源:www.examk.com

答案解析

相似试题

  • (单选题)

    He,OH,Na等元素在900℃下,在二氧化硅中的扩散率大于10-13cm2/s,这些元素称为()。

    答案解析

  • (单选题)

    在确定扩散率的实验中,扩散层电阻的测量可以用()测量。

    答案解析

  • (单选题)

    在空位扩散中,如果迁移到空位的原子是基质原子,扩散属于()。

    答案解析

  • (单选题)

    在空位扩散中,如果迁移的空位的原子是杂质原子,扩散称为()。

    答案解析

  • (单选题)

    在确定扩散率的测结深实验中,结深的测量是采用HF和()的混和液对磨斜角进行化学染色的。

    答案解析

  • (单选题)

    硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是()。

    答案解析

  • (单选题)

    在热扩散工艺中的预淀积步骤中,磷的扩散温度为()。

    答案解析

  • (单选题)

    在热扩散工艺中的预淀积步骤中,砷和锑的扩散温度为()。

    答案解析

  • (单选题)

    在热扩散工艺中的预淀积步骤中,硼在900~1050℃的条件下,扩散时间大约()为宜。

    答案解析

快考试在线搜题