进行井下平面控制测量，仪器多次对中时，每次对中测一个测回。若用固定在基座上的光学对中器进行点上对中，每次对中应将基座旋转（　）。

（多选题）

大型矿井进行井下基本控制测量时对仪器有哪些要求（）。

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（判断题）

井下水准控制测量要求每站用两次仪器高观测两次仪器高互差应大于10cm。

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（简答题）

井下平面控制测量，对基本控制导线及采区控制导线的敷设有何要求？

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（单选题）

井下一级水准测量每站用不同仪器高观测，其高差较差不得超过（）。

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（填空题）

在井下测量中，平面控制测量是井下（）和（）的基础。

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（判断题）

井下平面控制测量实际上是导线测量。

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（简答题）

简述井下平面控制测量的等级和布设要求。

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（简答题）

井下平面控制测量有何特点？

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（简答题）

井下平面控制测量的目的？

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