自然氧化层：如果曝露于室温下的空气或含溶解氧的去离子水中，硅片的表面将被氧化。这一薄氧化层称为自然氧化层。硅片上最初的自然氧化层生长始于潮湿，当硅片表面暴露在空气中时，一秒钟内就有几十层水分子吸附在硅片上并渗透到硅表面，这引起硅表面甚至在室温下就发生氧化。自然氧化层引起的问题是：
①将妨碍其他工艺步骤，如硅片上单晶薄膜的生长和超薄氧化层的生长。
②另一个问题在于金属导体的接触区，如果有氧化层的存在，将增加接触电阻，减少甚至可能阻止电流流过。
③对半导体性能和可靠性有很大的影响
（简答题）
什么是硅片的自然氧化层？由自然氧化层引起的三种问题是什么？
正确答案
答案解析
略
相似试题
（简答题）
制造半导体元件时，常常需要测定硅片上的二氧化硅薄膜的厚度．可以将二氧化硅薄膜的一部分腐蚀掉，露出一个倾斜的劈尖膜．用波长为589.3nm的钠光垂直照射，观察到如图所示的条纹．已知硅的折射率为3.42，二氧化硅的折射率n=1.52，计算此氧化层的厚度d．
（简答题）
什么是外延层？为什么在硅片上使用外延层？
（简答题）
什么是外延层？为什么硅片上要使用外延层？
（简答题）
离子注入前一般需要先生长氧化层，其目的是什么？
（填空题）
自然界引起硝化作用的微生物最主要是一群（），他们从氧化NH3及HNO2中取得能量，以（）为碳源进行生活。
（填空题）
自然界引起硝化作用的微生物最主要是一群化能自养型细菌，他们从氧化NH3及HNO2中取得能量，以（）为碳源进行生活。
（单选题）
自然界中铀元素的稳定氧化态是（）
（名词解析）
栅氧化层电容
（多选题）
下列哪些自然因素会影响大气中二氧化碳的含量（）
