(判断题)
投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。
A对
B错
正确答案
答案解析
略
相似试题
(判断题)
在集成电路制造工艺步骤中,光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
(简答题)
比较投影掩模版和光学掩模版有何异同?说明采用什么技术形成投影掩模版上的图形?
(填空题)
随着铜布线中大马士革工艺的引入,金属化工艺变成刻蚀()以形成一个凹槽,然后淀积()来覆盖其上的图形,再利用()把铜平坦化至ILD的高度。
(单选题)
航片上的投影差是由()引起的像点位移
(填空题)
BZA 201 10电源的整流器面版上的P1代码表示(),P2代码表示()。
(单选题)
()是由封闭图形所形成的二维实心区域,它不但含有边的信息,还含有边界内的信息,用户可以对其进行各种布尔运算。
(填空题)
平板仪测图是采用()投影方法和图上图形与地面图形()原理成图的。
(填空题)
平板仪测图是采用()投影方法和图上图形与地面图形()原理成图的。
(填空题)
用正投影法所绘制的物体图形称为()。