首页学历类考试大学理学
(单选题)

半导体工业所用的硅单晶()是用CZ法生长的。

A70%

B80%

C90%

D60%

正确答案

来源:www.examk.com

答案解析

相似试题

  • (简答题)

    熔体生长单晶所用坩埚材料遵循哪些原则?

    答案解析

  • (单选题)

    半导体硅工业产品不包括()①多晶硅②单晶硅③外延片④非晶硅

    答案解析

  • (简答题)

    简述熔体法生长单晶的特点以及主要方法?

    答案解析

  • (单选题)

    直拉法生长单晶硅拉晶过程有几个主要阶段?()

    答案解析

  • (单选题)

    直拉法生长单晶硅拉晶过程有几个主要阶段?()

    答案解析

  • (简答题)

    半导体单晶中的点缺陷包括什么?

    答案解析

  • (简答题)

    单晶的主要特性及应用领域单晶的生长方法的分类是怎样的?

    答案解析

  • (填空题)

    ()是半导体单晶重要电学参数之一,它反映了补偿后的杂质浓度,与半导体中的载流子浓度有直接关系。

    答案解析

  • (简答题)

    在制造硅半导体器体中,常使硼扩散到硅单晶中,若在1600K温度下,保持硼在硅单晶表面的浓度恒定(恒定源半无限扩散),要求距表面10-3cm深度处硼的浓度是表面浓度的一半,问需要多长时间(已知D1600℃=8×10-12cm2/s;当时,)?

    答案解析

快考试在线搜题