A负胶受显影液的影响比较小
B正胶受显影液的影响比较小
C正胶的曝光区将会膨胀变形
D使用负胶可以得到更高的分辨率
E负胶的曝光区将会膨胀变形
(多选题)
光刻胶的光学稳定通过()来完成的。
答案解析
关于正胶和负胶的特点,下列说法正确的是()。
关于正胶和负胶在显影时的特点,下列说法正确的是()。
(单选题)
下列哪些因素不会影响到显影效果的是()。
下列有关ARC工艺的说法正确的是()。
下列有关曝光系统的说法正确的是()。
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是()。
在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。
光刻工艺中,脱水烘焙的最初温度是()。