(判断题)
在杂质半导体中,杂质饱和电离区载流子的主要来源是本征激发的载流子。
A对
B错
正确答案
答案解析
略
相似试题
(填空题)
在P型杂质半导体中,多数载流子是(),少数载流子是()。
(填空题)
本征半导体中载流子的数目比杂质半导体中载流子的数目().
(填空题)
杂质半导体中的多数载流子是由掺杂产生的,少数载流子是由()产生的。
(填空题)
自由电子为()载流子,空穴为()载流子的杂质半导体称为()半导体。
(填空题)
空穴为()载流子。自由电子为()载流子的杂质半导体称为P型半导体。
(简答题)
室温下,本征锗的电阻率为47Ω·cm,试求本征载流子浓度。若掺入锑杂质,使每106个锗原子中有一个杂质原子,计算室温下电子浓度和空穴浓度。设杂质全部电离。锗原子的浓度为4.4×1022cm-3,试求该掺杂锗材料的电阻率。设μn=3600cm2/V·s, 且认为不随掺杂而变化。ni=2.5×1013cm3。
(填空题)
在N型半导体中,掺入()价杂质元素。
(单选题)
在杂质半导体中,少子浓度主要取决于()
(简答题)
有一半导体硅样品,施主浓度为ND=2×1014/cm3,受主浓度为NA=1×1014/cm3,已知施主电离能为ΔE0=0.05eV,试求:99%的施主杂质电离时的温度。