（简答题）

简述CVD原理简单的归纳。

正确答案

（1）CVD沉积反应是由5个相串联的步骤所形成的。其速率的快慢取决于其中最慢的一项，主要是反应物的扩散及CVD的化学反应。
（2）一般而言，当反应温度较低时，CVD将为表面反应限制所决定；当温度较高时，则为扩散限制所控制（但并不是绝对的）。

答案解析

略

相似试题

（简答题）
简述CVD技术的热动力学原理——热力学
答案解析
（简答题）
请简述金属的贮氢原理，并写出简单的反应式。
答案解析
（简答题）
简单归纳一下导热问题中常见的几类边界条件以及其定义。
答案解析
（简答题）
CVD法的过程和细节分别是什么？
答案解析
（判断题）
CVD为化学气相沉积技术的简称。
答案解析
（简答题）
化学气相沉积（CVD）
答案解析
（简答题）
化学气相沉积（CVD）
答案解析
（简答题）
如何利用CVD制备金属间化合物薄膜？
答案解析
（简答题）
简单说明喷射器的工作原理。
答案解析

快考试在线搜题