A高分辨率
B高灵敏度
C精密的套刻对准
D大尺寸
E低缺陷
（单选题）
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。
答案解析
光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。
在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。
（多选题）
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。
光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。
有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。
光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。
（简答题）
SMT工艺对粘合剂有何要求？SMT工艺常用的粘合剂有哪些？
