（简答题）
硅片研磨及清洗后腐蚀的方法有哪些？
正确答案
答案解析
略
相似试题
（简答题）
硅片研磨及清洗后为什么要进行化学腐蚀？
（简答题）
绒面结构及作用；单晶硅片和多晶硅片表面制作绒面结构所用的腐蚀剂及提高绒面结构质量采用的措施。
（填空题）
（）的通常方法有珩磨、研磨、超精加工及抛光等方法。
（填空题）
零件光整加工的通常方法有（）、研磨、超精加工及（）等方法。
（填空题）
零件光整加工的通常方法有珩磨、研磨、超精加工及（）等方法。
（填空题）
晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种，其中酸性蚀刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸当缓冲剂，一般去除约10-20μm厚的表面层。
（简答题）
常用的清洗方法有哪些？
（简答题）
防止钢铁气体腐蚀的方法有哪些？
（填空题）
硅片上的氧化物主要通过（）和（）的方法产生，由于硅片表面非常平整，使得产生的氧化物主要为层状结构，所以又称为（）。
