化学气相沉积与物理气象沉积技术的区别是什么，它们的主要应用场合？

化学气象沉积主要是CVD法，含有涂层材料元素的反应介质在较低温度下气化，然后送入高温的反应室与工件表面接触产生高温化学反应，析出合金或金属及其化合物沉积于工件表面形成涂层。
Cvd法的主要特点：
1可以沉积各种晶态或非晶态的无机薄膜材料.
2纯度高，集体的结合力强。
3沉积层致密，气孔极少，
4均度性好，设备及工艺简单。
5反应温度较高。
应用：在钢铁、硬质合金、有色金属、无机非金属等材料表面制备各种用途的薄膜，主要是绝缘体薄膜，半导体薄膜，导体及超导体薄膜以及耐蚀性薄膜。
物理气象沉积：气态物质在工件表面直接沉积成固体薄膜的过程。称PVD法。有三种基本方法，真空蒸镀，溅射镀膜和离子镀。应用：耐磨涂层，耐热涂层，耐蚀涂层，润滑涂层，功能涂层装饰涂层。

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