（名词解析）
化学气相沉积（CVD）
正确答案
化学气相沉积是利用电阻加热、等离子体、光辐射等能源使某些气态物质发生化学反应，生成固态物质并沉积在衬底表面形成薄膜的过程。
答案解析
略
相似试题
（名词解析）
化学气相沉积
（简答题）
化学气相沉积与物理气象沉积技术的区别是什么，它们的主要应用场合？
（填空题）
目前正在广泛研究的有化学气相沉积法、（）、固相结晶、等。
（填空题）
a-Si：H以及合金材料，用（）、热CVD、光CVD等气相生长法可以制造薄膜。
（简答题）
在多晶硅电池片上用等离子体进行的化学气相沉积法生产的氮化硅膜会产生哪两种效果？
（简答题）
物理气相沉积？
（名词解析）
物理气相沉积
（填空题）
碳化硅原料的合成方法（）；直接有元素碳和硅合成碳化硅；气体化合物制取碳化硅（气相沉积）。
（单选题）
沉积岩中的化学沉积矿物主要有（）
