(单选题)
()是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。
A蒸镀
B离子注入
C溅射
D沉积
正确答案
答案解析
略
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(多选题)
直流二极管辉光放电系统是由()构成。
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在直流二极管辉光放电系统的玻璃管中,自由电子在碰撞氩原子之前可运动的平均距离又叫()。
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离子源腔体中的气体放电形成()而引出正离子的。
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()是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。
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()是测量在刻蚀过程中物质被移除的速率有多快的一种参数。
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在各种离子源常用的放电方式中,EOS是指有()。
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损伤的分布与注入离子在在靶内的()的分布密切相关。
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离子注入的主要气体源中,剧毒的有()。
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离子注入的主要气体源中,易燃、易爆的有()。