A二次电子
B二次中子
C二次质子
D无序离子
（单选题）
损伤的分布与注入离子在在靶内的（）的分布密切相关。
答案解析
多晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对（）的高选择性。超薄的栅氧化层使得在刻蚀多晶硅电极时对栅氧化层的刻蚀要尽可能的小。
（简答题）
电子产品的设计文件有什么作用？
ICT的作用是什么？
局域网中使用中继器的作用是（）。
请说明方框图的作用及绘制方法是什么？
电子产品的工艺文件有哪些种类？有什么作用？
（多选题）
晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。
离子源产生的离子在（）的加速电场作用下得到加速。
