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(简答题)

计算含有施主杂质浓度为ND=9×1015cm-3,及受主杂质浓度为1.1×1016cm3,的硅在33K时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。

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  • (简答题)

    有一半导体硅样品,施主浓度为ND=2×1014/cm3,受主浓度为NA=1×1014/cm3,已知施主电离能为ΔE0=0.05eV,试求:99%的施主杂质电离时的温度。

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  • (名词解析)

    施主杂质

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  • (简答题)

    现有三个半导体硅样品,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为p01=2.25×1015/cm3,p02=1.5×1010/cm3,p03=2.25×104/cm3 (1)分别计算这三个样品的电子浓度 (2)判别这三个样品的导电类型  (3)计算这三个样品的费米能级的位置

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  • (简答题)

    锑化铟的禁带宽度Eg=0.18eV,相对介电常数εr=17,电子的有效质量mn*=0.015m0, m0为电子的惯性质量,求 ①施主杂质的电离能 ②施主的弱束缚电子基态轨道半径。

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  • (判断题)

    将Si掺杂入GaAs中,Si取代Ga则起施主杂质作用,若Si取代As则起受主杂质作用。

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  • (简答题)

    锑化铟的禁带宽度Eg=0.18eV,相对介电常数εr=17,电子的有效质量m*n=0.015m0,m0为电子的惯性质量,求 ①施主杂质的电离能, ②施主的弱束缚电子基态轨道半径。

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  • (简答题)

    室温下,本征锗的电阻率为47Ω·cm,试求本征载流子浓度。若掺入锑杂质,使每106个锗原子中有一个杂质原子,计算室温下电子浓度和空穴浓度。设杂质全部电离。锗原子的浓度为4.4×1022cm-3,试求该掺杂锗材料的电阻率。设μn=3600cm2/V·s, 且认为不随掺杂而变化。ni=2.5×1013cm3。

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