（多选题）
影响等离子体蚀刻特性好坏的因素包括以下几个方面（）。
A等离子体蚀刻系统的形态
B等离子体蚀刻的参数
C光刻胶
D待蚀刻薄膜的淀积参数条件
正确答案
答案解析
略
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（多选题）
干法蚀刻通常指利用辉光放电方式，产生等离子体来进行图案转移的蚀刻技术。其中等离子体含有（）。
（简答题）
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（简答题）
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（判断题）
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（填空题）
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