（单选题）
表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。
A分凝度
B固溶度
C分凝系数
D扩散系数
正确答案
答案解析
略
相似试题
（单选题）
二氧化硅生长过程中，当分凝系数小于1时，会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度（）。
（单选题）
钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。
（单选题）
下列哪些元素在硅中是快扩散元素：（）。
（单选题）
半导体硅常用的施主杂质是（）。
（单选题）
危害半导体工艺的典型金属杂质是（）。
（单选题）
半导体硅常用的受主杂质是（）。
（多选题）
下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。
（简答题）
若500型指针式万用表的表笔香蕉插头处的导线因使用日久，从焊点根部处断裂，要重新进行焊接。而香蕉插头处绝缘塑料是与插头金属柄的直纹滚花注塑成一体的，无法取下，且该塑料耐热较差，容易软化变形。为重新焊好表笔线又不损坏塑料柄，请决定：如何选择烙铁的功率，是大些好，还是小些好？焊接时如何保护塑料手柄不受热变形？
（单选题）
化合物半导体砷化镓常用的施主杂质是（）。
