（多选题）
下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。
A硼
B锡
C锑
D磷
E砷
正确答案
答案解析
略
相似试题
（单选题）
半导体硅常用的施主杂质是（）。
（单选题）
化合物半导体砷化镓常用的施主杂质是（）。
（单选题）
在空位扩散中，如果迁移的空位的原子是杂质原子，扩散称为（）。
（多选题）
扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散，改变了晶片（），所以晶片才能被人们所使用。
（单选题）
半导体硅常用的受主杂质是（）。
（多选题）
离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。
（多选题）
离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。
（单选题）
表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。
（单选题）
（）的气体源中一般包含H+，C+，B+，Cl+，O+等离子。
