（单选题）
（）的气体源中一般包含H+，C+，B+，Cl+，O+等离子。
ACl2
BBCl3
CCO2
DH2
正确答案
答案解析
略
相似试题
（多选题）
离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。
（多选题）
离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。
（多选题）
下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。
（单选题）
有机性气体大多产生在下列哪道工艺（）。
（单选题）
不可以对SiO2进行干法刻蚀所使用的气体是（）。
（单选题）
离子源腔体中的气体放电形成（）而引出正离子的。
（单选题）
干氧氧化中，氧化炉内的气体压力应（）一个大气压。
（单选题）
（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。
（单选题）
电离气体与普通气体的不同之处在于：后者是由电中性的分子或原子组成的，前者则是（）和中性粒子组成的集合体。
