（单选题）
对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。
A离子注入
B溅射
C淀积
D扩散
正确答案
答案解析
略
相似试题
（单选题）
在空位扩散中，如果迁移的空位的原子是杂质原子，扩散称为（）。
（单选题）
离子源的作用是使所需要的杂质原子电离成（）离子，并通过一个引出系统形成离子束。
（单选题）
二氧化硅生长过程中，当分凝系数小于1时，会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度（）。
（单选题）
由于离子交换树脂反应，它既可以去除水中杂质离子，又可以将失效树脂进行处理，恢复交换能力，所以称为（）反应。
（单选题）
半导体硅常用的施主杂质是（）。
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危害半导体工艺的典型金属杂质是（）。
（单选题）
半导体硅常用的受主杂质是（）。
（多选题）
下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。
（单选题）
钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。
