（名词解析）
恒定表面源扩散
正确答案
在整个扩散过程中，杂质不断进入硅中，而表面杂质浓度始终保持不变。
答案解析
略
相似试题
（名词解析）
有限表面源扩散
（判断题）
有限表面源扩散与离子注入的杂质分布都满足高斯函数，两种掺杂工艺杂质最高浓度位置都在硅片表面。
（填空题）
恒定温度、恒定总浓度下，均相混合物中分子扩散通量JA与（）成正比，其比例系数称为（）。
（填空题）
恒定电势源电路的三相短路电流中包含短路电流（）分量和短路电流（）分量。
（判断题）
理想电流源输出恒定的电流，其输出端电压由内电阻决定。
（简答题）
与扩散源相比，离子注入有哪些优点？
（填空题）
恒定干燥条件下，恒速干燥阶段物料的表面温度为（），降速干燥阶段物料的表面温度将（）空气的湿球温度。
（单选题）
恒定干燥条件下，绝热对流干燥时，介质传到物料表面的热量与水分汽化所需的热量相比（）
（名词解析）
表面扩散
