（简答题）
衬底清洗过程包括哪几个步骤？
正确答案
（1）擦洗表面的大块污物；（2）浸泡；（3）化学腐蚀；（4）水清洗；（5）干燥。
答案解析
略
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（简答题）
典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
（简答题）
什么是扩散效应？什么是自掺杂效应？这两个效应使得衬底/外延界面杂质分布有怎样的变化？
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（简答题）
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（简答题）
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（单选题）
Ⅰ号液是（）过氧化氢清洗液.
（填空题）
化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。
（填空题）
光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。
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