（名词解析）
光刻胶
正确答案
又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
答案解析
略
相似试题
（判断题）
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
（判断题）
如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。
（判断题）
有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。
（判断题）
对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。
（简答题）
列出并描述两种主要的光刻胶。
（简答题）
列出并描述I线光刻胶的4种成分。
（简答题）
给出硅片制造中光刻胶的两种目的。
（填空题）
光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。
（简答题）
负性和正性光刻胶有什么区别和特点？
