1.树脂。光刻胶树脂是一种惰性的聚合物基质，用于把光刻胶中的不同材料聚在一起的粘合剂
2.感光剂。是光刻胶材料中的光敏成分，它对光形成的辐射能会发生反应
3.溶剂。使光刻胶保持液体状态，直到它被涂在硅片衬底上
4.添加剂：是专用化学品，用来控制和改变光刻胶材料的特定化学性质或光刻胶材料的光响应特性
（简答题）
列出并描述I线光刻胶的4种成分。
正确答案
答案解析
略
相似试题
（简答题）
列出并描述两种主要的光刻胶。
（简答题）
给出硅片制造中光刻胶的两种目的。
（填空题）
光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。
（判断题）
曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。
（简答题）
列出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。
（简答题）
试简述水准仪i角检验方法并列出公式。
（判断题）
聚乙烯基吡咯烷酮是喷发胶的主要成分。
（简答题）
请通过课外查找资料，找出氨基酸、多肽或蛋白质类药物中的一个代表药物，并列出其药品名称、成分或结构式、剂型、药理作用和适应症等。
（填空题）
列出热氧化物在硅片制造的4种用途（）、（）、场氧化层和（）。
