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(多选题)

薄膜沉积的机构包括那些步骤()。

A形成晶核

B晶粒成长

C晶粒凝结

D缝道填补

E沉积膜成长

正确答案

来源:www.examk.com

答案解析

相似试题

  • (单选题)

    薄膜沉积的机构,依发生的顺序,可以分为这几个步骤。其中不包括()。

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  • (单选题)

    ()主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的。

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  • (单选题)

    ()是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。

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  • (单选题)

    ()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。

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  • (单选题)

    刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被()覆盖及保护的部分,以化学作用或是物理作用的方式加以去除,以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。

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  • (多选题)

    二氧化硅薄膜厚度的测量方法有()。

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  • (单选题)

    下面哪一种薄膜工艺中底材会被消耗()。

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    ()专指薄膜形成的过程中,并不消耗晶片或底材的材质。

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  • (单选题)

    二氧化硅薄膜的折射率是表征其()学性质的重要参数。

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