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(题干)

本题共计 3 个问题

现有三块半导体硅材料,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为:p01=2.25×1016cm-3,p02=1.5×1010cm-3,p03=2.25×104cm-3

简答题
1

分别计算这三块材料的电子浓度n01,n02,n03

正确答案

答案解析

简答题
2

判断这三块材料的导电类型

正确答案

答案解析

简答题
3

分别计算这三块材料的费米能级的位置。

正确答案

答案解析

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  • (简答题)

    现有三个半导体硅样品,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为p01=2.25×1015/cm3,p02=1.5×1010/cm3,p03=2.25×104/cm3 (1)分别计算这三个样品的电子浓度 (2)判别这三个样品的导电类型  (3)计算这三个样品的费米能级的位置

    答案解析

  • (简答题)

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    答案解析

  • (单选题)

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    答案解析

  • (简答题)

    室温下,施主浓度为1.0×1016cm-3的n型硅Si与铝Al形成金属与半导体接触,Al的功函数为4.30eV,Si的电子亲和能为4.05eV。已知,Nc=1019cm-3,k0T=0.026eV,ln1000=6.9。

    答案解析

  • (简答题)

    室温下,施主浓度为1.0×1016cm-3的n型硅Si与铝Al形成金属与半导体接触,Al的功函数为4.30eV,Si的电子亲和能为4.05eV。已知,Nc=1019cm-3,k0T=0.026eV,ln1000=6.9。

    答案解析

  • (简答题)

    室温下,施主浓度为1.0×1016cm-3的n型硅Si与铝Al形成金属与半导体接触,Al的功函数为4.30eV,Si的电子亲和能为4.05eV。已知,Nc=1019cm-3,k0T=0.026eV,ln1000=6.9。

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