（简答题）
根据成像结果的不同，光刻胶可分为哪两种类型，其中哪种成本较低且应用较早？
答案解析
若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区，光刻时需要使用哪种光刻胶？为什么？并简介光刻操作流程。
什么是负性光刻？正性光刻？
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
光刻的本质是什么？
光刻和刻蚀的目的是什么？
