（判断题）
干法腐蚀清洁、干净、无脱胶现象、图形精度和分辨率高。（）
A对
B错
正确答案
答案解析
略
相似试题
（判断题）
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）
（简答题）
根据原理分类，干法刻蚀分成几种？各有什么特点？
（简答题）
在干法刻蚀的终点检测方法中，光学放射频谱分析法最常见，简述其工作原理和优缺点。
（填空题）
腐蚀V形槽一般采用（）的湿法化学腐蚀方法。
（判断题）
光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）
（单选题）
反应离子腐蚀是（）。
（单选题）
腐蚀二氧化硅的水溶液一般是用（）
（填空题）
光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。
（简答题）
在MEMS加工中，为了精确控制腐蚀深度，有哪几种腐蚀停止技术，分别说一下其腐蚀停止原理。
