光刻是一种图形复印和化学腐蚀相结合的精密表面加工技术。
对光刻工艺质量的基本要求是：刻蚀的图形完整、尺寸准确、边缘整齐、线条陡直；图片内无小岛、不染色、腐蚀干净；图形套合十分准确；介质膜或金属膜上无针孔；硅片表面清洁、不发花、无残留的被腐蚀物质。
（简答题）
什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？
正确答案
答案解析
略
相似试题
（判断题）
光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）
（填空题）
光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。
（简答题）
什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？
（简答题）
在光刻中，能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗？为什么？
（简答题）
根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？
（简答题）
典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
（简答题）
简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？
（单选题）
光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）
（简答题）
浸没式光刻机相对于传统的光刻机有何不同。
