1、高能杂质离子轰击硅原子将对晶体结构产生损伤。（高温退火进行修复）。
2、注入设备的复杂性。（被注入机对剂量和深度的控制能力及整体工艺的灵活性弥补）。
（简答题）
离子注入的主要缺点是什么？如何克服？
正确答案
答案解析
略
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