（单选题）
光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）。
A电子束曝光技术
B离子束曝光技术
CX射线曝光技术
正确答案
答案解析
略
相似试题
（简答题）
光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？
（简答题）
何为分辨率、对比度、IC制造对光刻技术有何要求？
（简答题）
什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。
（简答题）
光刻加工技术的基本过程通常包括哪些步骤？
（填空题）
微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LIGA技术，（）和（）。
（判断题）
如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。
（简答题）
典型的DUV光刻胶曝光剂量的宽容度是多少？
（判断题）
步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。
（判断题）
曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。
