（多选题）
在半导体工艺中，如果淀积的薄膜不是连续的，存在一些空隙，则（）。
A使薄膜的介电常数变大
B可能引入杂质
C可能使薄膜层间短路
D使薄膜介电常数变小
E可能使薄膜厚度增加
正确答案
答案解析
略
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（多选题）
在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。
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（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。
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