(单选题)
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布?()
A高斯函数
B余误差函数
C指数函数
D线性函数
正确答案
答案解析
略
相似试题
(单选题)
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为()分布。
(填空题)
在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质,在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源,不再有新的杂质补充,这种扩散方式称为:()
(简答题)
什么是扩散效应?什么是自掺杂效应?这两个效应使得衬底/外延界面杂质分布有怎样的变化?
(简答题)
假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散,从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。
(简答题)
以P2O5为例,多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。
(简答题)
热退火用于消除离子注入造成的损伤,温度要低于杂质热扩散的温度,然而,杂质纵向分布仍会出现高斯展宽与拖尾现象,解释其原因。
(判断题)
片状源扩散具有设备简单,操作方便,晶片缺陷少,均匀性、重复性和表面质量都较好,适于批量生产,应用越来越普遍。()
(单选题)
二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行()扩散。
(简答题)
杂质原子的扩散方式有哪几种?它们各自发生的条件是什么?从原子扩散的角度举例说明氧化增强扩散和氧化阻滞扩散的机理。