（判断题）
片状源扩散具有设备简单，操作方便，晶片缺陷少，均匀性、重复性和表面质量都较好，适于批量生产，应用越来越普遍。（）
A对
B错
正确答案
答案解析
略
相似试题
（单选题）
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为（）分布。
（单选题）
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（）
（填空题）
在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质，在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源，不再有新的杂质补充，这种扩散方式称为：（）
（简答题）
假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散，从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。
（简答题）
单晶片切割的质量要求有哪些？
（单选题）
光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）
（填空题）
半导体中的离子注入掺杂是把掺杂剂（）加速到的需要的（），直接注入到半导体晶片中，并经适当温度的（）。
（单选题）
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。
（单选题）
二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。
