（填空题）
白光照射二氧化硅时，不同的厚度有不同的（）。
正确答案
答案解析
略
相似试题
（单选题）
在温度相同的情况下，制备相同厚度的氧化层，分别用干氧，湿氧和水汽氧化，哪个需要的时间最长？（）
（简答题）
根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？
（判断题）
单晶是原子或离子沿着三个不同的方向按一定的周期有规则的排列，并沿一致的晶体学取向所堆垛起来的远程有序的晶体。（）
（简答题）
浸没式光刻机相对于传统的光刻机有何不同。
（判断题）
晶体的特点是在各不同晶向上的物理性能、机械性能、化学性能都相同。（）
（简答题）
一片硅片由0.3um厚的SiO2薄膜覆盖。所需数据见下表，玻尔兹曼常数k=1.38×10-23。（1）在1200℃下，采用H2O氧化，使厚度增加0.5um需要多少时间？。（2）在1200℃下，采用干氧氧化，增加同样的厚度需要多少时间？
（多选题）
按蒸发源加热方法的不同，真空蒸发工艺可分为：（）蒸发、（）蒸发、离子束蒸发等。
（单选题）
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。
（简答题）
杂质原子的扩散方式有哪几种？它们各自发生的条件是什么？从原子扩散的角度举例说明氧化增强扩散和氧化阻滞扩散的机理。
