(填空题)
刻蚀剖面指的是(),有两种基本的刻蚀剖面()刻蚀剖面和()刻蚀剖面。
正确答案
被刻蚀图形的侧壁形状;各向同性;各向异性
答案解析
略
相似试题
(判断题)
各向异性的刻蚀剖面是在所有方向上(横向和垂直方向)以相同的刻蚀速率进行刻蚀。
(简答题)
描述各同向性和各向异性刻蚀剖面,以及在每一种剖面中哪一种是希望的哪一种是不希望的?
(单选题)
微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。
(填空题)
刻蚀是用()或()有选择地从硅片表面去除不需要材料的工艺过程,其基本目标是()。
(简答题)
列举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点,干法刻蚀的不足之处是什么?
(判断题)
刻蚀速率通常正比于刻蚀剂的浓度。
(简答题)
简述什么是干法刻蚀与湿法刻蚀。
(填空题)
在干法刻蚀中发生刻蚀反应的三种方法是()、()和()。
(单选题)
硅微体刻蚀加工和硅微面刻蚀加工的区别在于()。